Veeco获得Epiluvac AB加速渗透进入高增长碳化硅外延设备市场
具备出众的叠加、分辨率和侧壁剖面,使高度自动化和成本效益的生产性能
革命Low-Cost-of-Ownership HVM production-proven热退火的解决方案
光子学制造商转向先进的金属,湿蚀刻和离子束溅射过程改进设备
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科学和其他
建立在几十年的材料科学和技术过程,Veeco唯一能够提供智能解决方案,消除阻碍纳米设备和先进的包装生产。
化合物半导体市场是Veeco的驱动力之一,主要由5克,显示和电源终端市场。
5 g的承诺需要根本性的变化在我们的通信网络和数据存储基础设施。你需要我们独特的技术可以提供的解决方案。
连同我们的微机电系统,材料科学和电源管理专家,你会让你在未来的智能城市,工厂,运输系统。
激光加工系统
光刻系统
离子束系统
金属系统
湿处理系统
MBE技术
原子层沉积系统
物理气相沉积系统
切割和研磨系统
气体和蒸汽输送系统
Veeco开发了革命性的技术产品,使热退火的解决方案在最先进的技术节点。
Veeco是市场领头羊在光刻系统专门为增加较小的线和空间的挑战。
Veeco的无与伦比的离子束技术提供可靠的腐蚀和沉积性能使数据存储和MEMS市场几十年了。
Veeco提供一系列业界领先GaN和/ P金属系统旨在最大化吞吐量的同时降低拥有成本等各种应用程序的显示、三维传感、激光雷达、微型LED显示屏,和光学数据通信。
表面处理使用可持续实践是至关重要的确保先进微电子注定汽车应用程序的可靠性,医疗设备,5 g和云存储。
当你创建的外来化合物半导体薄膜材料一个水晶,你需要一个分子束外延系统是高度可配置的。
设备节点持续萎缩,生产10 nm和7 nm节点,和发展发生3海里。我们的原子层沉积工具给你最终的精度和层均匀性甚至在最好的节点。
Veeco的物理气相沉积系统提供最大的灵活性为范围广泛的薄膜沉积应用先进的过程能力,无与伦比的均匀性和多个沉积模式。
先进光电设备依赖于精密光学部件使用先进的薄膜技术创建。紧公差和优越的平面度是我们提供当你信任你的切割和研磨需要我们。
先进半导体器件开发最先进的计算过程,如人工智能和计算,需要在ultra-high-purity生产环境。这是材料的纯度最重要,我们可以做出改变。
Veeco全球服务和支持设置标准,我们的产品正常运行时间最大化和所有权成本最小化。与24-hour-per-day seven-day-per-week服务世界各地,Veeco提供世界级的服务通过训练和认证服务工程师提供最新的应用程序支持,确保我们的设备提供了最大的生产力。
客户生产力解决方案
在一起,我们会克服障碍和挑战在正确的时间使用正确的技术,世界上无论它需要发生。
发现
我们寻求解决你的复杂的挑战和障碍技术商业化。这不仅是我们的使命,我们的激情。
发展
我们利用多样化的核心竞争力开发解决方案,满足未来需要在半导体,微电子学和其他新兴高增长的市场。
协作
与我们的统一的全球团队合作最聪明的头脑来自不同学科允许您捕获跨职能的创造力和放大思维最大的影响。