禁止破坏臭氧层的化学物质排放增加
一项新的分析发现迅速增加的排放在2010年和2020年之间的5消耗臭氧层的化学物质的生产对于大多数使用被禁止在《蒙特利尔议定书》。这些五氯氟化碳的排放,或氟氯化碳,发生在部分泄漏的合成中包含氟利昂的替代品。即使允许排放或中间产品作为例外,根据《蒙特利尔议定书》,它们是与它的更广泛的目标,观察到的增加上升的担忧。
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免费订阅“现在我们关注这些排放,因为《蒙特利尔议定书》的成功,”卢克西方说,该论文的主要作者研究员国家海洋和大气管理局(NOAA)的全球监测实验室和布里斯托尔大学的。“氯氟化碳排放量更普遍使用,现在禁止降到如此低的水平,排放的氯氟烃从先前的来源是我们的雷达了。”The study, by an international team of scientists from NOAA, the University of Bristol, Empa, CSIRO, the University of East Anglia, the University of California San Diego, the University of Colorado, Boulder, and Forschungszentrum Jülich, was published this week in Nature Geoscience.
没有直接威胁到臭氧层——但一个重要的温室效应
据研究人员介绍,这些排放的氯氟烃目前不显著威胁臭氧恢复。目前的增长速度,然而,他们可能成为一个重大贡献的臭氧消耗物质的总排放量。同时,因为他们是温室气体,它们对气候产生影响:结合,他们的排放量等于有限公司2排放在2020年的一个较小的国家,如瑞士。这相当于约百分之一的温室气体排放在美国或1/1 000年全球温室气体排放。
氟利昂是化学物质破坏地球的保护臭氧层。一旦被广泛用于制造数百种产品包括气溶胶喷雾,为泡沫吹代理和包装材料,作为溶剂和制冷剂,氯氟化碳的生产等禁止使用在2010年《蒙特利尔议定书》。
然而,国际条约并没有禁止使用和创建氯氟烃生产过程中其他化学物质包括氢氟碳化合物(HFCs),最近,还hydrofluoroolefins(高频振荡器),这是发达国家作为氟利昂的替代品。
本研究专注于五氟氯化碳很少有,或者没有,知道目前的使用——CFC-13, cfc - 112 a, cfc - 113 a, cfc - 114 a,和cfc - 115和大气寿命从52到640年。对臭氧的影响,这五个排放氯氟烃相当于当前排放量的十分之一左右CFC-11,这群最丰富的化学物质根据《蒙特利尔议定书》控制。
了破纪录的丰度
在这项研究中,研究小组使用测量来自14个网站在世界各地,包括先进的全球大气气体实验(AGAGE)站如站在少女峰,由电子探针管理,和大气传输模型表明,全球大气丰度和排放的氯氟烃生产后增加对于大多数使用在2010年被淘汰;事实上,他们在2020年达到了破纪录的丰度。
研究人员确定,三氟氯化碳他们研究了cfc - 113 a, cfc - 114 a和cfc - 115部分排放的增加可能是由于他们的角色在两个常见的氢氟碳化合物的生产主要用于制冷和空调。”作为目前最有可能的来源,这些化合物是碳氟化合物)行业的副产品,有担忧增加排放的氯氟烃的生产预测这些新一代氟碳产品,”马丁说Vollmer电子探针,该研究的作者之一。
背后的驱动力增加另外两个排放氯氟烃,CFC-13 cfc - 112 a,然而,就不那么确定了。Vollmer:“我们不知道任何当前化学氟碳过程中这两种物质出现中间或副产品。”
时间提高《蒙特利尔议定书》吗?
研究人员不确定这些排放来自哪里;他们记录上升的全球温室气体排放,但没有能够识别特定的源位置。原因之一,电子探针的Stefan Reimann说,也是该项研究的合作者之一,是众多“盲点”全球监测网络:“尽管这项研究综合了几个网络测量和组,世界的一些地区,其中包括全球最大的氟碳产品,严重undersampled。”
研究人员称,如果这五氟氯化碳排放继续上升,其影响可能会抵消一些在《蒙特利尔议定书》和获得的好处,也大大有助于全球变暖。研究指出这些排放可能减少或避免减少泄漏与氢氟烃生产和通过适当地破坏任何氯氟烃共同制作的。“鉴于这些化学物质在大气中持续走热,也许是时候考虑加强《蒙特利尔议定书》多一点,”另一个研究的合著者说,约翰内斯·j Forschungszentrum的Laube。一个外卖信息,卢克说西方,是生产过程的一些CFC替代化学物质可能不是完全包含,即使替代化学物质本身。
参考:西方LM Vollmer可Krummel PB,等。从2010年到2020年全球增长破坏臭氧层的氟氯烃。Nat Geosci。2023:1-5。doi:10.1038 / s41561 - 023 - 01147 - w
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