工程师开发新的存储技术保持Nanosurfaces干净

赖斯大学的工程师创造了容器可以保持挥发性有机化合物(挥发性有机化合物的仪器)积累存储纳米材料的表面上。

便携式和廉价的存储技术地址nanomanufacturing和材料科学实验室的一个无处不在的问题描述本周发表的一篇论文在美国化学学会纳米快报》杂志上。

“挥发在空气中,包围着我们每一天,”研究相应的作者说丹尼尔·普雷斯顿在水稻的助理教授机械工程系。“他们坚持表面形成涂层,主要的碳。用肉眼看不到这些层,但是他们的形式,通常在几分钟之内,几乎任何表面暴露在空气中。”

VOCs是碳基分子从许多常见产品,包括清洁剂、油漆、和办公室,制定供应。他们积累在室内含量特别高,碳的薄层泥状物质沉积在表面会阻碍工业纳米制造过程,限制微流控检测包的准确性产生混乱科学家们行为基础研究表面。

为了解决这一问题,博士生,研究报告的主要作者刘甄普雷斯顿和othersfrom他的实验室,开发了一种新型的存储容器,保持清洁的对象。实验表明,她的方法有效地防止表面污染至少六个星期,甚至可以清洁VOC-deposited层从以前污染的表面。

容器内的技术依赖于一个超净墙。内墙表面增强和小疙瘩和磕碰等大小从几millionths只有十亿分之一米。微观和纳米缺陷增加墙的表面积,使更多的金属原子可以在空气中挥发性有机化合物的仪器密封的容器内。

“变形允许内部容器壁作为“牺牲”材料,”刘说。“挥发到容器壁的表面,它允许其他对象存储在保持干净。”

她说的想法使用大型precleaned表面积累的污染物提出了50年前但却引起很大的注意。她和她的同事们改进了的想法与现代方法清洁和nanotexturing表面。他们显示,通过一系列的实验,他们的方法做了一个更好的防止挥发存储材料的涂层表面比其他方法,包括密封培养皿和最先进的真空干燥器。

普雷斯顿集团建立在其实验,开发一种理论模型,准确地表征容器内发生了什么。普雷斯顿说,模型将允许他们改善他们的设计和优化系统性能。

参考:刘Z, Yap TF, Rajappan Shveda RA,拉希德RM,普雷斯顿DJ。减轻污染nanostructure-enabled超净存储。纳米列托人。2023年。doi:10.1021 / acs.nanolett.3c00626

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