范宣布新的DualBeam解决方案

范宣布了显著的性能改进的DualBeam™系统。

新EasyLift™nanomanipulator允许改善易用性、可靠性、精度和集成在制备超细样品透射电子显微镜(TEM)分析。

新MultiChem™气体输送系统,用于直接beam-induced沉积和蚀刻的材料,提供优越的控制和灵活性在注气过程和特性简化维护。

EasyLift是专门为原位liftout (INLO)透射电镜样品制备纳米操作和其他要求的活动。

“通过所有权的TEM薄板创建过程中的关键步骤,范现在可以提供一种更健壮的,集成的,DualBeam客户的和自动化解决方案,”Paul Kirby说范高级产品营销经理的电子业务单元。

科比继续说道,“更好的性能和路线图全自动样本liftout将大大受益我们先进的失效分析和研究实验室的客户。”

EasyLift现在可以在Helios™nonalab™和Versa 3 d™DualBeam系统。

范的注气组合解决方案直接beam-induced沉积和蚀刻现在引入MultiChem进一步加强。

MultiChem目标应用程序,进一步提高至关重要的属性材料沉积,更好的优化沉积或优惠蚀刻工艺参数,用新的气体或腐蚀材料。

“范杠杆多年的内部MultiChem的设计方面的专业知识。它是一个紧凑,集成和自动化解决方案支持六前体和先进控制优化气体通量,交付和混合的化学反应。这也保证了前体坩埚的更快和更简单的维护,“产品营销主任说安德烈Mijiritskii SEM和DualBeam产品,材料科学业务单元,范。

更好地控制注气参数和全面整合至关重要beam-induced沉积和蚀刻到下一个级别,如高纯度的材料的沉积或更复杂,控制的内容。

一起,奕丰™自动化框架,MultiChem现在允许更系统的研究和优化梁的化学过程在一个自动化的方式,在更大范围内的化学反应。

MultiChem现在在Helios nonalab系统。