范宣布新Verios极端的高分辨率扫描电镜
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范延伸其领导的高分辨率扫描电子显微镜(SEM)市场,与此同时,博姿公司推出了新的Verios™XHR SEM。
Verios提供精确测量所需的事实上的决议和增强对比beam-sensitive材料在先进的半导体制造和材料科学的应用程序。
“Verios XHR SEM扩展了SEM的一生,作为一种重要的半导体过程控制实验室的测量工具,允许工程师测量beam-sensitive材料和常规扫描电镜结构太小,“鲁迪柯尔尼,副总裁和总经理,范电子业务单元。
柯尔尼继续说道,“当我们结合IC3D™软件,Verios是一个健壮的工具,可以提供所需的精确测量控制流程的22纳米技术节点下面。”
范特丽莎大米、材料科学的副总裁和总经理业务单位补充说,“对于材料科学家,Verios还将使重要的新见解通过扩展事实上成像和描述今天正在开发的新材料。这将允许研究人员捕捉高分辨率,高对比度的图像,而不需要过渡到TEM或其他成像技术。”
范Verios是第二代的领先的XHR SEM的家庭。在低kV,常规扫描电镜的性能将显著下降,Verios系统的先进的光学表面细节提供令人印象深刻的敏感性。
它允许任何用户之间迅速切换不同的操作条件下,保持清洁样本,获得在任何加速电压从事实上决议
1 kV 30千伏。
除了极端高分辨率性能,Verios引入了新的检测技术。
优化信号收集和先进的过滤能力不仅提供更高和更灵活的一代相比,但也允许更大范围的调查样本。
许多beam-sensitive或导电材料可以准确地观察到纳米级,没有任何准备。
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