范引入了三个新的系统

范引入了三个新的系统,裁缝的力量透射电子显微镜(TEM)特定应用程序和行业的需要。

新系统提供高效和有效的半导体制造特定于应用程序的工作流程和科学研究。

它们包括新Metrios™TEM先进的半导体制造计量、塔洛斯™提供高速成像和TEM分析材料和生命科学应用,忒弥斯和泰坦™™TEM增强量子测量的材料属性。

”,这三个系统我们已经介绍了前所未有的共有6个新的显微镜在过去的一年,”本杰明Loh说,范的执行副总裁兼首席运营官。

Loh继续说,“所有六个被设计和建造提供了一个特定于应用程序的工作流程,提供上下文信息的直接价值用户在科学和工业市场领域,包括:材料科学、化学、生命科学、和半导体制造业。我们的目标是要彻底改变世界的TEM所以客户可以改变他们的世界。”

Metrios系统是第一个TEM致力于提供的快速、精确测量半导体制造商需要开发和控制他们的晶圆制造过程。

广泛的自动化的基本TEM操作和测量程序最小化要求专业操作员培训。其先进的自动化计量提供比手工方法更精确。

Metrios TEM旨在为客户提供改进吞吐量和cost-per-sample低于其他显微镜。

塔洛斯TEM结合高分辨率,高通量TEM图像快速、准确和定量能量色散x射线(EDX)分析与领先的价值提供先进的分析性能。

范新TEM是可用的最高亮度最新电子源和EDX探测器技术提供高效低浓度和光元素的检测,以及范的独家3 d EDS断层。

优秀的性能较低的加速电压允许使用较低的光束能量减少样本破坏微妙的材料。

塔洛斯平台是完全数字化,允许远程操作,它还允许添加特定于应用程序的检测器或样品持有人进行动态实验。

增强的自动化和易用性,塔洛斯尤其适合个人侦探以及多用户实验室环境。

忒弥斯泰坦TEM在aberration-corrected范延伸的领导地位,量子成像和分析。研究者使用高分辨率的aberration-corrected TEM理解材料的大规模的物理性能之间的关系及其量子组成和结构。

忒弥斯泰坦平台可以直接测量的属性,如磁场、在纳米尺度和电场甚至原子尺度。

完整的TEM工作流的自动化,从样品导航和定位到最后的数据采集,提高了结果的重复性和再现性,使结论更有信心用更少的时间和精力。