范发布新的Helios nonalab G3 DualBeam

范已经宣布释放其业界领先的下一代Helios nonalab™DualBeam™。太阳神nonalab G3 DualBeam扩展了赫利俄斯家族的领导地位与无与伦比的图像对比度和分辨率,同时,添加一个新的,易于使用的用户界面。

新赫利俄斯有两种不同的workflow-specific配置用于材料科学研究。它将出现在范布斯在国际显微镜国会,7 - 9月,在布拉格,捷克共和国。

范“Helios nonalab G3 DualBeam持续的DualBeam仪器中行之有效的领导,建立在历史悠久的性能和创新从第一个商业DualBeam范推出了超过20年前,赫利俄斯的PFIB™DualBeam刚刚宣布上个月在显微镜和显微分析表明,“特丽莎赖斯说,副总裁和总经理范的材料科学。

赖斯继续说道,“这赫利俄斯家族的第三代继续提供高分辨率和强大的图像对比家庭而闻名,但是添加了一个新的界面,可以指导用户通过典型操作。我们已经优化每个工作流的配置为一个特定的类,根据客户的反馈和我们长期和深度参与DualBeam分析。”

DualBeam乐器的能力结构和成分和添加和删除材料纳米尺度下材料科学家可以探索基本结构和功能之间的关系和超薄样品准备原子尺度分析透射电子显微镜(TEM)。

赫利俄斯的残雪配置nonalab G3 DualBeam包括更多多才多艺的样品处理和定位快速、灵活的分析,样品制备和表征。

加州大学配置提供最终的成像能力增加灵敏度在柔软的表面细节,提高性能,绝缘或beam-sensitive材料。